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磁控濺射鐵磁性靶材存在的問題

更新時間:2018-09-19      點(diǎn)擊次數(shù):1741
對于Fe、Co、Ni、Fe2O3、坡莫合金等鐵磁性材料,要實(shí)現(xiàn)低溫、高速濺射沉積,采用普通的磁控濺射方式會受到很大的限制。這是由于采用上述幾種材料制成的靶磁阻很低,大部分磁場如圖1所示的那樣幾乎*從鐵磁性靶材內(nèi)部通過,使靶材表面上部的剩余磁場過小,無法形成有效地電子束縛區(qū)域,不可能形成平行于靶表面的使二次電子作圓擺線運(yùn)動的強(qiáng)磁場,使得磁控濺射不能進(jìn)行。此時,磁控濺射就成為效率很低的二極濺射,使薄膜的沉積速度大大下降,基片急劇升溫。
 
相比普通靶材,除了磁屏蔽效應(yīng)外,在濺射鐵磁性材料時,等離子體磁聚現(xiàn)象變得更加嚴(yán)重。如圖2所示,圖2 (a) 中的點(diǎn)1和點(diǎn)3是磁力線通道中線軸C兩邊的點(diǎn)。在濺射時,由于電場和磁場共同存在,處于點(diǎn)1和點(diǎn)3位置的電子受到庫侖力和洛侖茲力的作用而向磁力線通道的中線軸C處運(yùn)動,處于點(diǎn)2位置的電子不受橫向力的作用。
 
  因此,濺射時中線軸處的等離子體多,在靶材相應(yīng)位置的濺射為激烈,濺射率也大。這種情況在所有的靶材濺射中均存在。但是在濺射鐵磁性靶材時,等離子體磁聚現(xiàn)象更加嚴(yán)重。
 
  從圖2(d) 可見,由于等離子體磁聚現(xiàn)象,首先在磁力線通道中線處出現(xiàn)濺射溝道,原從鐵磁靶材內(nèi)部通過的磁力線就將從溝道處外泄出來,濺射的溝道越深,外泄的磁力線越多,磁力線中軸處的磁場強(qiáng)度越大,從而使更多的電子在磁力線中軸處磁聚,更多的等離子體在磁力線中軸處產(chǎn)生,于是溝道處的濺射率就越大,終導(dǎo)致溝道處的靶材更快被濺穿。由于鐵磁性靶材內(nèi)部通過的磁力線遠(yuǎn)遠(yuǎn)多于普通靶材,所以其磁力線外瀉的更多,磁力線中軸處的磁場強(qiáng)度更大,溝道處的濺射刻蝕速率更快。
 
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